名师简介
李爱东 教授 化学法沉积制膜实验室 南京大学材料科学与工程系 材料物理与化学方向 传真：86－25-83595535； 电话：86－25-83594689（办） 电子邮件地址: adli@nju.edu.cn 李爱东,教授，博士生导师，1988年在浙江大学化工系获学士学位。1988－1994年在哈尔滨工业大学应用化学系工作，1993年获得化学系硕士学位。1996年获南京大学物理系理学博士学位。1996年至今，在南京大学材料系工作，从事科研和教学工作。2000年香港理工大学的访问学者，2005年加州大学伯克利分校访问学者。入选2004年教育部新世纪优秀人才计划。主持和参与了国家自然科学基金、“973”、教育部、江苏省和与国外公司的合作项目等多项课题。已在国际学术期刊上发表SCI论文90余篇，论文被国际同行他引已超过270篇次。申请中国发明专利9项（二项已获授权）。 基本情况： *1994－1996年，南京大学物理系，获博士学位； *1990－1993年，哈尔滨工业大学应用化学系，获硕士学位； *1984－1988年，浙江大学化工系，获学士学位； *2000年香港理工大学访问学者； *2005.9-2006.9加州大学伯克利分校访问学者 * 2004年－现在，南京大学材料科学与工程系教授、博导； * 1999年－2004年，南京大学材料科学与工程系副教授； * 1996－1999年，南京大学材料科学与工程系讲师； * 1988－1994年，哈尔滨工业大学化学系精细化工研究室工作 讲授课程： 1． 无机非金属工艺学 （陶瓷工学）（本科生） 2． 材料科学进展 （研究生） 主要研究方向： 1) 集成铁电学基础：铁电薄膜和栅介电薄膜与硅的集成 2）化学法制备科学（金属有机化学气相沉积法、原子层沉积法、湿化学法）：薄膜生长工艺、动力学、机理和微结构；纳米结构和自聚集制备科学 3）极化功能聚合物材料的制备与极化特性 主要科研项目： 1、"原子层淀积高介电纳米层状薄膜的生长与性能研究"，国家自然科学基金面上项目，主持 2、"稳定的水溶性钽、铌前体的合成及其在铁电材料和光催化材料领域中的应用"，江苏省自然科学基金，主持 3. 教育部“新世纪优秀人才计划” ，主持 4. “Studies on the Microstructure and Reliability of Electroless and Electro-Plated Copper for Printed Circuit Boards Applications”, Rohm & Haas公司合作项目,主要参加 主要科研成果： 1、首次采用湿化学法在较低的生长温度制备出具有优异导电性能的新型氧化物薄膜LaNiO3，为提高铁电疲劳性能，实现在半导体芯片上的低温沉积，推进非挥发性铁电存储器的实用化，具有重要意义。这方面工作受到国际同行的重视，论文他引用已达60多次。 2、采用湿法化学技术成功地制备了以铁电体为基础的系列薄膜、多层膜和异质结构，并对其中的生长动力学及其微结构与性能的关系进行了系统研究，为湿化学技术应用于集成铁电学和集成光学的器件制备提供了基础。发展了湿化学法控制薄膜取向的新型技术：原位低压诱导生长技术、自模板层生长技术，实现了一系列铁电薄膜的择优取向甚至外延生长，申请了国家发明专利7项（其中一项已获授权）。 3、作为主要研究人员参与了与摩托罗拉公司的横向合作项目"微结构、应力及钝化处理对用于存储器的SBT薄膜铁电性质的影响" （1998－2000）和"用于下一代MOSFET的高介电栅材料的制备与研究"（2000－2003），由于在项目中表现出的突出能力、敬业精神和出色和合作精神，获得了2001年摩托罗拉公司颁发的成就奖。 4. 已在SCI期刊上发表学术论文80余篇，其中Appl. Phys. Lett. 8篇， J. Appl. Phys. 8篇。 获奖情况： 1． “几种铁电薄膜及配套氧化物电极材料的研究”， 2005年国家自然科学二等奖（第二完成人） 2． “存储器用铁电薄膜及电极材料的研究”， 2003年教育部提名国家自然科学奖一等奖，（第二完成人） 3． “X射线衍射在集成铁电学（铁电薄膜）研究中的应用“, 2002年中国分析测试协会科学技术奖"CAIA"一等奖（第一完成人） 4． 2001年中国摩托罗拉研究院颁发的摩托罗拉成就奖（个人奖励） 5． 一种采用低电场诱导控制湿化学法制备薄膜取向的方法，中国发明专利，ZL 00 1 12548.6 6．含铁电纳米晶的电光极化聚合物及其制备方法，中国发明专利号，ZL 200410014335.5 1 12548.6 近期代表性论文： Qi-Yue Shao, Ai-Dong Li, Yi-Dong Xia, Di Wu, Zhi-Guo Liu, Nai-Ben Ming，“Strontium-modified lead zirconate titanate thin films for electrically tunable device applications” J. Appl. Phys. 100, Art. No. 036102 (2006）. 2．Qi-Yue Shao, Ai-Dong Li, Wen-Qi Zhang, Di Wu, Zhi-Guo Liu, Nai-Ben Ming，“CVD of Zr0.65Ti0.35O2 thin films using a single-source precursor of novel anhydrous mixed-metal nitrates” Chem. Vapor Deposition 12, 423 (2006). 3．Wen-Chao Liu, Ai-Dong Li, Jing Tan, Di Wu, Nai-Ben Ming，“Optical properties of ferroelectric nanocrystal-containing polymer BaTiO3/polycarbonate films” J. Appl. Phys. 98, Art. No. 024112 (2005). 4． Ai-Dong Li, Qi-Yue Shao, Hui-Qin Ling, Jin-Bo Cheng, Di Wu, Zhi-Guo Liu, Nai-Ben Ming, Cathy Wang, Hong-Wei Zhou, Bich-Yen Nguyen，“Characteristics of LaAlO3 gate dielectrics on Si grown by metalorganic chemical vapor deposition” Appl. Phys. Lett. 83, 3540-3542 (2003). 5． Ai-dong Li, Hui-Qing Ling, Di Wu, Tao Yu, Zhi-Guo Liu and Nai-Ben Ming "Characteristics of SrBi2Ta2O9 ferroelectric films in an in-situ applied low electric field prepared by MOD" Solid State Communications, 125, 469-473 (2003). 6.Aidong Li, Di Wu, Huiqin Ling, Mu Wang, Zhiguo Liu and Naiben Ming, "Different growth behavior of SrBi2Ta2O9 ferroelectric films under conventional and rapid annealing processing by metalorganic decomposition" J. Cryst. Growth 235, 394-400 (2002). 7. A. D. Li, C. L. Mak, K. H. Wong, D. Wu, and N. B. Ming, "A novel route for the epitaxial growth of (SrBa)Nb2O6 thick films by sol-gel method using a self-template layer" J. Mater. Res. 16, 3179 (2001). 8. Aidong Li, Di Wu, Huiqin Ling, Tao Yu, Mu Wang, Xiaobo Yin, Zhiguo Liu, and Naiben Ming, "Effects of Processing on the Characteristics of SrBi2Ta2O9 Films Prepared by Metalorganic Decomposition" J. Appl. Phys. 88(2), 1035 (2000). 9. Aidong Li, Chuanzhen Ge, Peng Lü, Di Wu, Sibei Xiong and Naiben Ming, "Fabrication and electrical properties of sol-gel derived BaTiO3 films with metallic LaNiO3 electrode" Appl. Phys. Lett. 70,1616 (1997). 10. Aidong Li, Chuanzhen Ge, Peng Lü and Naibeng Ming, "Preparation of perovskite conductive LaNiO3 films by metalorganic decomposition" Appl. Phys. Lett. 68, 1347 (1996).